【中文科技资讯】12月27日消息，根据韩媒 ETNews 报道，SK海力士公司成功研发出了一项革命性的CMP抛光垫技术，该技术不仅在降低成本方面展现出巨大潜力，更在环境、社会和治理(ESG)管理方面取得了重要进展。
韩国半导体行业的这一重大突破，为整个行业带来了前所未有的变革。SK海力士指出，这种新型CMP抛光垫的独特之处在于其可重复使用性。他们计划首先将这项技术应用于低风险工艺环节，随后逐步推广至更广泛的应用场景。
据中文科技资讯了解，CMP技术主要通过化学与机械的双重作用，达到提升材料表面平整度的目的。在这一过程中，抛光垫发挥着关键作用：它不仅帮助抛光液在加工区均匀分布，还负责移除抛光过程中产生的残留物，并传递必要的机械载荷以维持所需的化学和机械环境。此外，抛光垫的表面组织特征，例如微孔形状、孔隙率、沟槽形状等，也在影响抛光效率和平坦性方面发挥着重要作用。
SK海力士采用的CMP抛光垫表盘纹理重建方法，正是这项技术的核心，确保了抛光垫的可重复使用性。这一技术的成功，将减少对国外CMP抛光垫产品的依赖，这对于韩国半导体行业的自主发展具有深远意义。目前韩国大约70%的CMP抛光垫需依赖进口，SK海力士的这一创新将为国内产业带来更多自主性和竞争力。
